美国禁售EUV光刻机? 即将没有意义了, 我们有2个方向突破了

光刻机，是当前芯片制造流程中，最核心最重要的一环。因为几乎所有大规模量产芯片的技术，都离不开光刻，所以就离不开光刻机。

而为了卡住中国芯片产业的脖子，美国限制ASML将先进的光刻机卖给中国，特别是EUV光刻机，连先进的浸润式DUV，也不准卖。

而光刻机，与芯片工艺是对应的，EUV光刻机对应的是7nm以下的芯片制造，而浸润式光刻机，先进的型号，可以制造7nm芯片。

所以美国的目的很直接，那就是锁住我们，不能往7nm以下工艺进发，因为这样那么先进的芯片我们制造不出来，就得找美国买，美国就卡住我们了，可以获得经济上的，政治上的利益。

但是经过这么多年的努力，很明显，美国限制ASML的光刻机销售，即将没有意义了，因为我们已经有2个方向，有突破了，未来不需要EUV，我们也一样能够制造出5nm芯片出来。

第一个方向，是NIL纳米压印，佳能之前就制造出来了能制造5nm芯片的纳米压印机，可以替代EUV光刻机的。

而国内璞璘科技，也制造出了首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备，线宽<10nm，可以用于芯片、封测等领域，同样可以制造5nm及以来的芯片。

第二个方向是EBL电子束技术，浙江大学成果转化基地，推出了首台国产商业化电子束光刻机 “羲之”，其精度达 0.6nm、线宽 8nm，无需掩膜版，也能够直接制造5nm及以下的芯片。

这两个方向，都是可以替代EUV光刻机的方向，有了这样的设备，不需要EUV一样能制造先进芯片。

目前这两种设备，都不是PPT，是已经研发出来了，交付给客户在进行测试，以及与相关其它设备的联调，最终建设整个生产线。

当然，缺点也不是没有，因为芯片制造是一整套的，光刻机只是其中一环，还需要其它设备配合，国内的这两种设备，目前还缺这一整套芯片制造生态，需要一点时间。

另外就是这两种设备，功率效率上还比不过EUV光刻机，但相信迭代几次后，就能够一定程度上替代EUV了，就像EUV第一代，也不行一样。

所以说，真的要不了多久，美国不允许ASML将EUV卖给我们，也没有意义，我们可以绕道超定，用另外的方向，制造出自己的先进芯片，到时候所谓的芯片禁令就成废纸，芯片战争彻底结束。